Laboratoř je vybavena přístrojem ESCAProbeP vyrobený firmou Omicron Nanotechnology Ltd. V roce 2004 Přístroj je vybaven monochromátorem, dvěma typy iontových děl, detekcí elektronů s 5 channeltrony, možností kompenzace nabíjení vzorku pomocí zdroje nízkoenergetických elektronů, zdrojem UV záření pro analýzu valenčních stavů, fokusovatelným zdrojem elektronů a detektorem sekundárních elektronů.
Celkové uspořádání
Stroj se skládá z analyzační komory, preparační komory, vstupní komory kombinované s expoziční komorou. Na preparační komoře je připojena napařovačka a iontové dělo. Na analyzační komoře je, kromě hemisférického detektoru elektronů osazeného 5 chaneltrony, další iontové dělo, analyzátor sekundárních elektronů, monochromatizovaný zdroj RTG záření ( 1486.7 eV), fokusovatelný zdroj elektornů na Auger analýzu, zdroj nízkoenergetických elektronů pro kompenzaci nabíjení vzorku a pro LEED a duální RTG zdroj (Al/Mg).
Experimentální podmínky: Analýza probíhá v UHV vakuu, tj. za tlaků řádu 10-10 mbar. Je možné provádět analýzy za zvýšených teplot (do 400 °C) i za nízkých teplot (teploty blízké kapalnému dusíku).
Analyzovaná plocha pomocí XPS: Podle nastavení přístroje od stopy s průměrem 1,3 mm do průměru 70 mikrometrů.
Další dostupné měřící techniky:
UPS - analýza valenčních stavů pomocí zdroje ultrafialového záření
SEM - s rozlišovací schopností 1 μm
SAM (Scanning Auger Microscopy) - možnost mapování elementárního složení povrchu, spojeno se SEM, stejná rozlišovací schopnost
LEED - difrakce nízkoenergetických elektronů